Chińscy projektanci mody podbili Off Fashion w Kielcach
Chen Jing.
Jeszcze 20 lat temu obraz Chin, jaki dominował w polskich mediach, zawierał straszną wizję wszystkich mieszkańców ubranych w kurtki Sun Jat-sena zwane też mundurkami Mao. Jednak w pewnym momencie obrazu tego nie dało się już dłużej obronić, a teraz młodzi chińscy projektanci mody wychodzą w świat. XX edycję Konkursu Off Fashion 2018 w Kielcach wygrała projektantka z Chin – Chen Jing.
W XX edycji Międzynarodowego Konkursu dla Projektantów i Entuzjastów Mody Off Fashion 2018 na 112 uczestników konkursu, aż 11 przybyło z Państwa Środka. Tak duża obecność na wydarzeniu projektantów z Chin świadczy, że państwo to chce nie tylko odgrywać wiodącą rolę w sferze gospodarki, ale również być postrzegane jako miejsce przyjazne dla twórczości i kreatywności.
Spośród uczestników jury wyłoniło 20 finalistów, wśród których znalazło się dwoje Chińczyków. Motywem przewodnim tegorocznej edycji konkursu była opowieść “Piękna i Bestia”. Na Dużej Scenie Kieleckiego Centrum Kultury można było więc zobaczyć projekty śmiałe a nawet budzące grozę.
Trzecie miejsce zajął duet RAD, natomiast drugie Adrian Krupa. Pierwszą nagrodę wysokości 15 tysięcy zł dla Chen Jing wręczył prezydent Kielc Wojciech Lubawski.
Chińscy projektanci mody zwracają uwagę oryginalnością
O zwycięskiej kolekcji lokalny dziennik “Echo Dnia’ napisał: Jing Chen, postanowiła zwrócić uwagę publiczności i jury niecodziennymi połączeniami. Pierwsze miejsce wywalczyła prezentując dwie połowy różnych marynarek zestawione z delikatną, białą sukienką i szarymi spodniami oraz szarą spódnicę w większości zasłoniętą asymetrycznym, białym płaszczem.
Punktem wyjścia dla projektu stała się pochodząca z filozofii chińskiej koncepcja dwóch przeciwstawnych a jednocześnie uzupełniających się pierwiastków Ying i Yang. Nawiązuje to do tematu przewodniego tegorocznej edycji konkursu, czyli “Piękna i Bestia”. Dzikość typowa dla bestii i łagodność pięknej podkreślone zostały w kreacji doborem materiałów; twardych i szorstkich dla bestii oraz miękkich i delikatnych dla pięknej.
Off Fashion 2018
Kielecki konkurs ma za zadanie umożliwić rozpoczęcie kariery młodym projektantom. Po raz pierwszy Off Fashion odbył się w 2007 roku. W pierwszej edycji wzięło udział ponad 300 projektantów z Polski, Wielkiej Brytanii, Danii Niemiec Indii oraz Kazachstanu.
Konkurs stanowi szansę dla młodych projektantów na odniesienie pierwszego sukcesu. Kreacje oceniane są przez czołowych specjalistów w branży, co sprawia, że dla zwycięzców otwierają się możliwości dalszej kariery oraz edukacji na polskich i europejskich uczelniach artystycznych.
Znaczenie konkursu, na który przybyli w tak dużej liczbie młodzi chińscy projektanci mody podkreślone zostało przez obecność Radcy Kulturalnego Ambasady ChRL w Warszawie, pani Cai Lian. W jury konkursu zasiadał natomiast Zhou Shaoen, założyciel kierunku projektowania odzieży sportowej przy Instytucie Technologii Mody w Pekinie.
Autor: Wojciech Ostrowski
Dodaj komentarz